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5 Auswahl ainar UV-Bestrahlungsapparatur 
5.1 Vorgaban 
Die Aufgabe der auszuwählenden Bestrahlungsapparatur ist die vollstän 
dige Zerstörung der dissoziierten organischen Materie und Freisetzung 
der organisch-komplex gebundenen Schwermetalle. Die Bestrahlungs 
dauer soll möglichst kurz sein, damit der hohe Durchsatz der täglich zu 
messenden Proben innerhalb der regulären Arbeitszeit bestrahlt werden 
kann. Aus diesem Grund muß die Apparatur auch mehrere Proben 
gleichzeitig bestrahlen können. 
Unter Berücksichtigung der zu erwartenden niedrigen Schwermetaltkon- 
zentrationen ist es im Hinblick auf die absolute Nachweisgrenze der ver 
schiedenen Analysenverfahren erforderlich, mit Probenvolumen von 
400-500 ml zu arbeiten. 
Selbstverständlich dürfen durch die Bestrahlung keine Verluste, weder 
durch Verdampfung der Flüssigkeitsmenge noch durch Verdampfung 
leichtflüchtiger organischer Schwermetallverbindungen, entstehen. An 
den Wänden des Bestrahlungsgefäßes darf keine Ad-und/oder Absorption 
eintreten. 
Genauso selbstverständlich müssen Kontaminationen vermieden werden, 
die durch "Hereinfallen" oder durch Restspuren vorangegangener Proben 
entstehen können. Die Reinigung der eingesetzten Geräteteile, die mit 
dem Probenwasser in Kontakt waren, sollte möglichst einfach sein. 
Schwierig oder gar nicht auszubauende Teile werden nur mit allergrößter 
Mühe und Sorgfalt gereinigt werden können, so daß die Gefahr der Kon 
tamination besteht. 
Das Material der Apparatur sollte nach Möglichkeit aus einem korrosions 
beständigem Material bestehen, welches keine Elemente enthält, die in 
den Proben untersucht werden sollen. Damit fällt jede Form von Stahl, 
auch V2A- und V4A-Stahl, die hohe Anteile der Elemente Chrom und 
Nickel enthalten, aus der Betrachtung heraus. Das Material sollte außer 
dem lichtbeständig, besonders gegen das relativ harte UV-Licht, sein. 
Dagegen dürfen Reaktormaterial und Lampenmaterial keine UV-Strah 
lung absorbieren. Dies setzt also für die Lampe den Einsatz von Quarzglas 
voraus, wenn im Wellenlängenbereich unterhalb von 300 nm gearbeitet 
werden soll.